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FISCHERSCOPE X-RAY XDV-µ

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更新時(shí)間：2021-11-17 11:05:43瀏覽次數(shù)：225次

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菲希爾測(cè)試儀器(中國(guó))有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：43條

所在地區(qū)：福建廈門市

聯(lián)系人：葉先生（銷售）

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

特點(diǎn)同時(shí)測(cè)量從Al（13）到U（92）的多達(dá)24個(gè)元素

詳細(xì)介紹

特點(diǎn)

同時(shí)測(cè)量從Al（13）到U（92）的多達(dá)24個(gè)元素，XDV-μLD:S（16）-U（92）
*的多毛細(xì)管光學(xué)系統(tǒng)，可將X射線束聚焦到10μm（FWHM），用于微結(jié)構(gòu)測(cè)量
可編程XY工作臺(tái)和模式識(shí)別，用于多個(gè)樣品的自動(dòng)測(cè)量
擴(kuò)展樣品臺(tái)方便樣品的定位
向?qū)叫?zhǔn)過(guò)程
穩(wěn)健設(shè)計(jì)適合長(zhǎng)期使用
光學(xué)顯微鏡（放大270倍），顯示圖像和激光定位點(diǎn)，可顯示精確的測(cè)量點(diǎn)
無(wú)需校準(zhǔn)即可進(jìn)行測(cè)量的基本參數(shù)分析
符合IPC-4552A、4553A、4554和4556，ASTM B568，ISO 3497標(biāo)準(zhǔn)
Fischer的認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)片可追溯到的基本單位

應(yīng)用

微米和納米范圍內(nèi)的Au/Pd/Ni/CuFe和Sn/Ni鍍層
組裝和未組裝電路板
納米范圍內(nèi)的基底金屬化層（bump metallization，UBM）的測(cè)試
測(cè)量輕元素，例如測(cè)量金和鈀下的磷含量（在ENEPIG和ENIG中）
銅柱上的無(wú)鉛焊料蓋
測(cè)試C4和較小焊點(diǎn)的元素組成，以及半導(dǎo)體行業(yè)中的小接觸面

焊錫塊？線路板？引線框？只需使用一臺(tái)儀器即可測(cè)量所有這一切！

FISCHERSCOPE® XDV®-μ光譜儀是Fischer的X射線熒光系列，專為在最小的結(jié)構(gòu)上進(jìn)行精確的鍍層厚度測(cè)量和材料分析而開發(fā)。所有儀器都配備了一個(gè)多毛細(xì)管光學(xué)元件，可將X射線束聚焦到10μm（FWHM）。與采用準(zhǔn)直器的光學(xué)元件相比，多毛細(xì)管光學(xué)元件可以產(chǎn)生高輻射強(qiáng)度，從而大大縮短了測(cè)量時(shí)間。

所有FischerXRF儀器均配有功能眾多的WinFTM軟件，可在較高的精確度下測(cè)量各種應(yīng)用。WinFTM還有一個(gè)集成的報(bào)表生成工具，您只需單擊一下就可以創(chuàng)建單個(gè)報(bào)表。此外，WinFTM軟件還提供了向?qū)缘男?zhǔn)。

XDV-μ設(shè)備通過(guò)濾波器，電壓和電流設(shè)定的系列組合，允許您為多達(dá)24個(gè)元素的復(fù)雜應(yīng)用創(chuàng)造的激勵(lì)條件。此外，XDV-μ配備了一個(gè)可編程的XY工作臺(tái)和模式識(shí)別軟件，很容易自動(dòng)測(cè)量多個(gè)樣品。

標(biāo)準(zhǔn)版本XDV-μ配備了鎢X射線管，用于常規(guī)應(yīng)用的高精度測(cè)試。也可根據(jù)需要選擇鉬和鉻射線管。

XDV-μ儀器配備了一個(gè)大面積硅漂移探測(cè)器（有效面積50 mm2）和新型的數(shù)字脈沖處理器（DPP+）。這些組件一起使用時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)很高的計(jì)數(shù)率，這有助于最小化測(cè)量時(shí)間，同時(shí)優(yōu)化重復(fù)性。

特殊應(yīng)用的專用儀器

XDV-μ系列包括專門為電子和半導(dǎo)體行業(yè)的特定應(yīng)用量身定制的專用機(jī)型。例如，XDV-μLD是定制用于組裝好的的PCB上進(jìn)行測(cè)量，XDV-μWafer具有自動(dòng)晶片吸盤，并且XDV-μLEAD FRAME針對(duì)測(cè)量引線框架鍍層優(yōu)化設(shè)計(jì)的。

想了解更多嗎？把您的樣品寄給我們或給您安排免費(fèi)演示XDV-μ系列！

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ / XDV-μ LD

為了能以最少的時(shí)間測(cè)量最微小結(jié)構(gòu)的樣品，我們開發(fā)了FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ 系列儀器。大面積硅漂移探測(cè)器及多毛細(xì)管透鏡確保了在測(cè)量諸如鍵合面、表面貼裝器件及細(xì)線等樣品時(shí)的高準(zhǔn)確性和高重復(fù)性。這樣就能對(duì)印制線路板上的鍍層厚度進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間且高精度的監(jiān)控。

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LD 型儀器是您測(cè)量大尺寸樣品的理想儀器。由于測(cè)量距離可達(dá)12mm，即使是裝配了元器件的PCB也可輕松測(cè)量。

配鎢鈀的微聚焦透鏡；鉬靶可選
4個(gè)可靈活切換的初級(jí)濾波器
專為以短時(shí)間測(cè)量小尺寸點(diǎn)而設(shè)計(jì)的多毛細(xì)管透鏡 (10 – 60 µm FWHM)
20或50 mm2 有效面積的硅漂移探測(cè)器
3種放大倍數(shù)視頻顯示，用于精確樣品對(duì)位
高精度可編程測(cè)量平臺(tái)，適用于全自動(dòng)測(cè)量

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ LEAD FRAME

引線框架測(cè)量可信賴的專家。借助 FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LEAD FRAME，您可以在平面樣品上，在納米范圍內(nèi)高精度測(cè)量超薄鍍層的厚度。典型應(yīng)用包括CuFe基體上的Au、Pd和Ni厚度測(cè)量。同時(shí)，這一X射線熒光儀器也十分適合用來(lái)測(cè)量NiP層中的P含量。

XDV-µ LEAD FRAME 配備了專為優(yōu)化低能量段信號(hào)而開發(fā)的可切換初級(jí)濾波器和多毛細(xì)管透鏡。從而為相應(yīng)的測(cè)量需求提供了理想的激發(fā)條件。

氦氣充填，可測(cè)量從Na開始的輕元素
P多毛細(xì)管透鏡
高性能Cr靶射線管
4個(gè)可自動(dòng)切換的濾波器
高分辨CCD彩色攝像頭，帶校準(zhǔn)標(biāo)尺的十字線，可調(diào)節(jié)的LED亮度及用于樣品定位的激光標(biāo)記(class 1)
硅漂移探測(cè)器
快速、可編程XY平臺(tái)，帶有彈出功能和電驅(qū)動(dòng)Z軸，可用于自動(dòng)化測(cè)量

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ WAFER

晶圓樣品對(duì)測(cè)量技術(shù)提出了的要求。首先，樣品表面易受損壞。其次，被測(cè)點(diǎn)結(jié)構(gòu)微小，只有專門儀器才能進(jìn)行測(cè)量。配備了帶真空吸附的可編程測(cè)量臺(tái)，使得FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ WAFER特別適合半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的測(cè)量需求。

集成在設(shè)備中的多毛細(xì)管光學(xué)元件將X射線聚焦到最小的測(cè)量點(diǎn)(10–20µm)。因此，XDV-µ WAFER 因此，XDV-µ晶圓可以比任何傳統(tǒng)設(shè)備更精確地分析單個(gè)微結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，這是可以自動(dòng)完成的。