美國(guó)KRi霍爾離子源eH1000低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5"
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
工藝氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
美國(guó)KRi霍爾離子源eH1000產(chǎn)品特性介紹如下：
• 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無(wú)需水冷
• 等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制
型號(hào) | eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO |
供電 | DC magnetic confinement |
- 電壓 | 40-300V VDC |
- 離子源直徑 | ~ 5 cm |
- 陽(yáng)極結(jié)構(gòu) | 模塊化 |
電源控制 | eHx-30010A |
配置 | - |
- 陰極中和器 | Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
- 離子束發(fā)散角度 | > 45° (hwhm) |
- 陽(yáng)極 | 標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved |
- 水冷 | 前板水冷 |
- 底座 | 移動(dòng)或快接法蘭 |
- 高度 | 4.0' |
- 直徑 | 5.7' |
- 加工材料 | 金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體 |
- 工藝氣體 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
- 安裝距離 | 10-36" |
- 自動(dòng)控制 | 控制4種氣體 |
東莞市廣聯(lián)自動(dòng)化科技有限公司專(zhuān)業(yè)供應(yīng)進(jìn)口電磁閥、氣缸、泵、傳感器、繼電器、開(kāi)關(guān)、離合器、過(guò)濾器、濾芯、流量計(jì)、液位計(jì)、編碼器、伺服閥等產(chǎn)品。德國(guó)美國(guó)有公司，廠家一手貨源，詳請(qǐng)致電。
