高壓靜電水處理器是根據(jù)新一代的物理水處理原理，其主要是由棒體合金復(fù)合探頭和產(chǎn)生高壓電的電控箱組成。靜電水處理屬于物理方法,它與化學(xué)方法不同,基本上不是靠改變水中的離子成分中達(dá)到水處理目的,而是通過高壓或低壓靜電場(chǎng)的作用,改變水分子結(jié)構(gòu)或改變水分子中電子構(gòu)造,致使水中所含陽(yáng)離子不致趨向器壁,更不致在器壁集聚,從而達(dá)到防垢、除垢、殺菌、滅藻、緩蝕的目的。

高壓靜電水處理器運(yùn)行與維護(hù)：

1．離子棒靜電水處理器正常情況下，要定期觀察記錄指示燈的亮度，以確定BZL離子棒靜電水處理器是否正常工作外（指示燈亮，工作正常）；

2．用戶應(yīng)根據(jù)系統(tǒng)實(shí)際情況，定期及時(shí)進(jìn)行排污。采用離子棒處理以后，比常規(guī)化學(xué)水處理更會(huì)增加系統(tǒng)中懸浮離子的數(shù)量，因此及時(shí)排污是必要的。

2.1系統(tǒng)在安裝使用離子棒以后，在高壓靜電場(chǎng)的作用下，水腫的鈣硬度不會(huì)附著在管壁上形成硬垢，而水中過量的鈣硬度會(huì)以軟垢的形式從水中析出而不會(huì)附著在管壁上，這種松散的軟垢回被水流的帶走，在系統(tǒng)管路的低流速端沉積，因此即使將其從系統(tǒng)中排出是保障離子棒發(fā)揮性能的重要條件。尤其在系統(tǒng)原來已經(jīng)結(jié)垢的情況下，更要加強(qiáng)排污，根據(jù)系統(tǒng)的不同，一般要每天檢查排污。

2.2排污時(shí)間

在系統(tǒng)中已有結(jié)垢的情況下，要提高排污的頻率，一般每天要排污一次。在系統(tǒng)中沒有結(jié)垢的情況下，可以通過電導(dǎo)率的測(cè)試來指導(dǎo)排污。水中的鈣硬度與電導(dǎo)率有一個(gè)對(duì)應(yīng)關(guān)系，一般說來，對(duì)同一水質(zhì)電導(dǎo)率高的其鈣硬度也相應(yīng)要高一些。當(dāng)測(cè)得鈣硬度或電導(dǎo)率高于一定的值，則說明系統(tǒng)需要排污了?？偟臉?biāo)準(zhǔn)為水質(zhì)硬度不應(yīng)超過1000mg/L。

2.3電導(dǎo)率測(cè)試水樣的采集

水樣的采集，要遵循從那里排污就從那里取水樣的原則。在系統(tǒng)的排污區(qū)段（通常設(shè)在低流速區(qū)），水的電導(dǎo)率及鈣硬度要高于系統(tǒng)的其它區(qū)段，必要時(shí)可以記錄排污水量及鈣硬度的變化，以達(dá)到的經(jīng)濟(jì)性。

3．過濾：可以在系統(tǒng)的低流速區(qū)設(shè)立過濾器，將系統(tǒng)中的懸浮物去除，可以使離子棒發(fā)揮的效果，濾網(wǎng)的規(guī)格以能出去水中大部分懸浮物為原則。

4．在離子棒運(yùn)行的過程中，當(dāng)改變水處理方法時(shí)，注意不要引起系統(tǒng)沖擊。例如中斷化學(xué)方法水處理時(shí)，化學(xué)藥劑的加入量要逐漸減少。

5．為獲得離子棒處理的效果，離子棒的探頭要保持清潔，一般情況下，每半年進(jìn)行清洗一次。為了防止離子棒探頭外表面的特氟隆層損傷，宜用干凈的軟布或泡沫塑料輕輕擦拭，然后用清水沖洗即可。

6．儀器出廠前已調(diào)試完畢，用戶不可自行打開儀器。

7．系統(tǒng)停止工作時(shí)，應(yīng)關(guān)斷離子棒電源，以延長(zhǎng)其使用時(shí)長(zhǎng)。

8．高壓靜電水處理器需檢修時(shí)，應(yīng)切斷電源，并將探頭高壓端對(duì)地放電。