污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時間：2023-06-12 18:45:01瀏覽次數(shù)：264次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機RIE-400iP是用于?4"晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工
SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機RIE-400iP是用于?4 "晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對各種半導體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用的龍卷風線圈的電感耦合等離子體(Inductively Coupled Plasma)作為放電形式，可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。另外，可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子體源。
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"
可高效穩(wěn)定地應(yīng)用高射頻功率（2千瓦以上），并實現(xiàn)良好的均勻性。
大流量排氣系統(tǒng)
排氣系統(tǒng)直接連接到反應(yīng)室，可以實現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。
端點監(jiān)測
干涉法和發(fā)射光譜終點監(jiān)測儀可用于目標薄膜厚度的終點檢測。
易于維護的設(shè)計
TMP(渦輪分子泵)已集成在一個單元中，便于更換。
GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度蝕刻。生產(chǎn)半導體激光器和光子晶體。
干涉式端點監(jiān)測器 可進行高精度的端點檢測，并可將蝕刻深度控制在所需深度。
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